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文献
J-GLOBAL ID：200902012113423730
整理番号：89A0356940
エキシマレーザ照射による結晶性シリコンの低温酸化
Low temperature oxidation of crystalline silicon using excimer laser irradiation.
NAYAR V
(Univ. Coll. London, London, GBR)
,
BOYD I W
(Univ. Coll. London, London, GBR)
,
GOODALL F N
(Rutherford Appleton Lab., Oxon, GBR)
,
ARTHUR G
(Rutherford Appleton Lab., Oxon, GBR)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 36 号： 1/4 ページ： 134-140 発行年： 1989年01月
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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