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文献
J-GLOBAL ID：200902012797596671
整理番号：92A0519988
193及び248nmリソグラフィー用ポリシランフォトレジスト
Polysilane photoresists for 193 and 248nm lithography.
WALLRAFF G M
,
MILLER R D
,
BAIER M
,
GINSBURG E J
,
KUNZ R R
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 5 号： 1 ページ： 111-121 発行年： 1992年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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