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文献
J-GLOBAL ID：200902013274233920
整理番号：86A0489937
X線回折法によるPd2Si層成長の速度論の研究
Kinetics of Pd2Si layer growth measured by an X-ray diffraction technique.
COULMAN B
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign)
,
CHEN H
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 59 号： 10 ページ： 3467-3474 発行年： 1986年05月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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