文献
J-GLOBAL ID:200902014133428316
整理番号:90A0224278
タングステン源としてWCl6を使用したタングステンの選択低圧化学蒸着の実験的,熱力学的研究
Experimental and thermodynamical investigation of selective low pressure chemical vapour deposition of tungsten using WCl6 as tungsten source.
著者 (2件):
HARSTA A
(Univ. Uppsala, Uppsala, SWE)
,
CARLSSON J-O
(Univ. Uppsala, Uppsala, SWE)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
176
号:
2
ページ:
263-276
発行年:
1989年09月15日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)