文献
J-GLOBAL ID:200902014532038750
整理番号:92A0573178
GaAs(111)A基板面上にOMVPE法によって成長させたAlGaAs層の形態
Morphology of AlGaAs layer grown on GaAs(111)A substrate plane by organometallic vapor phase epitaxy.
著者 (5件):
UMEMURA M
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
,
KUWAHARA K
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
,
FUKE S
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
,
SATO M
(Sanken Electric Co., Ltd., Saitama)
,
IMAI T
(Meisei Univ., Hino, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
72
号:
1
ページ:
313-315
発行年:
1992年07月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)