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文献
J-GLOBAL ID：200902014660876386
整理番号：89A0237217
SiGeの酸化の研究
Oxidation studies of SiGe.
LEGOUES F K
(IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
,
ROSENBERG R
(IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
,
NGUYEN T
(IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
,
HIMPSEL F
(IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
,
MEYERSON B S
(IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 65 号： 4 ページ： 1724-1728 発行年： 1989年02月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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