文献
J-GLOBAL ID:200902014742067036
整理番号:88A0014059
新しい超LSI診断技術 集束イオンビームによる多層配線回路プロービング
A new VLSI diagnosis technique: Focused ion beam assisted multi-level circuit probing.
著者 (6件):
MASHIKO Y
(Mitsubishi Electric Co., Itami, JPN)
,
MORIMOTO H
(Mitsubishi Electric Co., Itami, JPN)
,
KOYAMA H
(Mitsubishi Electric Co., Itami, JPN)
,
KAWAZU S
(Mitsubishi Electric Co., Itami, JPN)
,
KAITO T
(Seiko Instruments Inc., Shinozuka, JPN)
,
ADACHI T
(Seiko Instruments Inc., Shinozuka, JPN)
資料名:
Annual Proceedings. IEEE International Reliability Physics Symposium
(Annual Proceedings. IEEE International Reliability Physics Symposium)
巻:
25th
ページ:
111-117
発行年:
1987年
JST資料番号:
A0631A
ISSN:
1541-7026
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)