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文献
J-GLOBAL ID：200902015525742996
整理番号：89A0280995
オキシ窒化けい素薄膜への水素混入
Hydrogen incorporation in silicon (oxy)nitride thin films.
KUIPER A E T
(Philips Research Lab., Eindhoven, NLD)
,
WILLEMSEN M F C
(Philips Research Lab., Eindhoven, NLD)
,
VAN IJZENDOORN L J
(Philips Research Lab., Eindhoven, NLD)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 53 号： 22 ページ： 2149-2151 発行年： 1988年11月28日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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