文献
J-GLOBAL ID:200902015658231684
整理番号:93A0096761
ポリイミド表面上のTaF5前駆体による化学蒸着のX線光電子分光法による研究
X-ray photoelectron spectroscopic studies of chemical vapor deposition with TaF5 precursor on polyimide surfaces.
著者 (3件):
UGOLINI D
(IBM Thomas J. Watson Research Center, New York)
,
KOWALCZYK S P
(IBM Thomas J. Watson Research Center, New York)
,
MCFEELY F R
(IBM Thomas J. Watson Research Center, New York)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
72
号:
10
ページ:
4912-4917
発行年:
1992年11月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)