文献
J-GLOBAL ID:200902015673797902
整理番号:93A0258975
Considerations in the Choice of Mask Pattern Generation Technique.
著者 (3件):
KUMAR R
(Semiconductor Complex Ltd., Nagar, IND)
,
SINGH D N
(Semiconductor Complex Ltd., Nagar, IND)
,
ZARABI M J
(Semiconductor Complex Ltd., Nagar, IND)
資料名:
Journal of the Institution of Electronics and Telecommunication Engineers
(Journal of the Institution of Electronics and Telecommunication Engineers)
巻:
36
号:
3/4
ページ:
169-175
発行年:
1990年05月
JST資料番号:
C0312A
ISSN:
0377-2063
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
インド (IND)
言語:
英語 (EN)