文献
J-GLOBAL ID:200902016198143087
整理番号:83A0482785
a-Si:H:O薄膜における酸素と水素の局所結合
Local bonding of oxygen and hydrogen in a-Si:H:O thin films.
著者 (2件):
LUCOVSKY G
(North Carolina State Univ.)
,
POLLARD W B
(North Carolina State Univ.)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
1
号:
2 Pt 1
ページ:
313-316
発行年:
1983年04月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)