文献
J-GLOBAL ID:200902016793649270
整理番号:91A0809185
Siの電子サイクロトロン共鳴酸化および界面損傷のエリプソメトリーによるその場研究
In situ spectroscopic ellipsometry study of the electron cyclotron resonance plasma oxidation of silicon and interfacial damage.
著者 (3件):
HU Y Z
(Univ. North Carolina, North Carolina)
,
JOSEPH J
(Univ. North Carolina, North Carolina)
,
IRENE E A
(Univ. North Carolina, North Carolina)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
59
号:
11
ページ:
1353-1355
発行年:
1991年09月09日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)