文献
J-GLOBAL ID:200902016940449834
整理番号:88A0594909
分子イオンCsM+を用いたIII-V半導体化合物の新しい二次イオン質量分析法
A new secondary ion mass spectrometry technique for III-IV semiconductor compounds using the molecular ions CsM+.
著者 (1件):
GAO Y
(Centre National d’Etudes des T<span style=text-decoration:overline>e ́</span>l<span style=text-decoration:overline>e ́</span>communications, Bagneux, FRA)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
64
号:
7
ページ:
3760-3762
発行年:
1988年10月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)