文献
J-GLOBAL ID:200902017360504435
整理番号:87A0093849
新しい反射型X線リソグラフィーの理論的考察
Theoretical consideration on new reflection type X-ray lithography.
著者 (1件):
MATSUMURA H
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
資料名:
Extended Abstracts of the 18th (1986 International) Conference on Solid State Devices and Materials
(Extended Abstracts of the 18th (1986 International) Conference on Solid State Devices and Materials)
ページ:
17-20
発行年:
1986年
JST資料番号:
K19860706
ISBN:
4-930813-14-X
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)