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文献
J-GLOBAL ID：200902017369540965
整理番号：90A0765032
高い蒸着速度で作製したYBa2Cu3O7-x薄膜の大きな臨界電流密度
Large critical current densities in YBa2Cu3O7-x thin films made at high deposition rates.
WU X D
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
,
MUENCHAUSEN R E
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
,
FOLTYN S
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
,
ESTLER R C
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
,
DYE R C
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
,
ENGLAND P
(Bellcore, New Jersey)
,
RAMESH R
(Bellcore, New Jersey)
,
XI X X
(Rutgers Univ., New Jersey)
,
INAM A
(Rutgers Univ., New Jersey)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 57 号： 5 ページ： 523-525 発行年： 1990年07月30日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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