文献
J-GLOBAL ID:200902017859063855
整理番号:87A0428715
半導体膜の製造過程に関する希薄気体力学的問題
Rarefied gas dynamics problems on fabrication processes of semiconductor films.
著者 (1件):
NANBU K
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Proceedings of the 15th International Symposium on Rarefied Gas Dynamics, 1986, Vol.1
(Proceedings of the 15th International Symposium on Rarefied Gas Dynamics, 1986, Vol.1)
ページ:
410-419
発行年:
1986年
JST資料番号:
K19870312
ISBN:
3-519-02622-8
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)