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文献
J-GLOBAL ID：200902021334983225
整理番号：86A0485070
Si/SiO2界面におけるSiO2の高温分解
High temperature decomposition of SiO2 at the Si/SiO2 interface.
RUBLOFF G W
(IBM, New York)
,
TROMP R M
(IBM, New York)
,
VAN LOENEN E J
(IBM, New York)
,
BALK P
(IBM, New York)
,
LEGOUES F K
(IBM, New York)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 4 号： 3 Pt 1 ページ： 1024-1025 発行年： 1986年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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