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文献
J-GLOBAL ID：200902022374213119
整理番号：89A0617164
低温急速熱処理による非晶質シリコン膜の選択領域結晶化
Selective area crystallization of amorphous silicon films by low-temperature rapid thermal annealing.
LIU G
(Pennsylvania State Univ., Pennsylvania)
,
FONASH S J
(Pennsylvania State Univ., Pennsylvania)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 55 号： 7 ページ： 660-662 発行年： 1989年08月14日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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