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文献
J-GLOBAL ID：200902024484103125
整理番号：90A0804448
Chemically amplified DUV photoresists using a new class of photoacid generating compounds.
PAWLOWSKI G
(Hoechst AG., Frankfurt/M., DEU)
,
DAMMEL R
(Hoechst AG., Frankfurt/M., DEU)
,
LINDLEY C R
(Hoechst AG., Frankfurt/M., DEU)
,
MERREM H-J
(Hoechst AG, Wiesbaden, DEU)
,
ROESCHERT H
(Hoechst AG, Wiesbaden, DEU)
,
LINGNAU J
(Hoechst AG, Wiesbaden, DEU)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 1262 ページ： 16-25 発行年： 1990年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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