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文献
J-GLOBAL ID:200902024719724610   整理番号:87A0272430

熱安定化したイオン注入により非晶化したシリコンの光学的性質

Optical properties of thermally stabilized ion implantation amorphized silicon.
著者 (9件):
FRIED M
(Central Research Inst. Physics, Budapest, HUN)
LOHNER T
(Central Research Inst. Physics, Budapest, HUN)
J<span style=text-decoration:overline>A ́</span>ROLI E
(Central Research Inst. Physics, Budapest, HUN)
V<span style=text-decoration:overline>I ́</span>ZKELETHY G
(Central Research Inst. Physics, Budapest, HUN)
K<span style=text-decoration:overline>O ́</span>TAI E
(Central Research Inst. Physics, Budapest, HUN)
B<span style=text-decoration:overline>I ́</span>R<span style=text-decoration:overline>O ́</span> A
(Tungsram Research Lab., Budapest, HUN)
<span style=text-decoration:overline>A ́</span>D<span style=text-decoration:overline>A ́</span>M J
(Tungsram Research Lab., Budapest, HUN)
SOMOGYI M
(Inst. Technical Physics, Budapest, HUN)
KERKOW H
(Humboldt Univ. Berlin, DDR)

資料名:
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)

巻: 19/20  号:ページ: 577-581  発行年: 1987年02月 
JST資料番号: H0899A  ISSN: 0168-583X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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