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文献
J-GLOBAL ID：200902024993707560
整理番号：89A0464677
反応性スパッタリングのプロセスモデル化
Process modeling of reactive sputtering.
BERG S
(Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
,
BLOM H-O
(Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
,
MORADI M
(Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
,
NENDER C
(Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
,
LARSSON T
(Ericsson Components AB, Kista-Stockholm, SWE)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 7 号： 3 Pt.1 ページ： 1225-1229 発行年： 1989年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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