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文献
J-GLOBAL ID：200902025166397213
整理番号：91A0767623
隣接Si(111)の化学エッチング 表面構造と水素末端のエッチング液のpHへの依存性
Chemical etching of vicinal Si(111): Dependence of the surface structure and the hydrogen termination on the pH of the etching solutions.
JAKOB P
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
CHABAL Y J
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
資料名：
Journal of Chemical Physics
(Journal of Chemical Physics)
巻： 95 号： 4 ページ： 2897-2909 発行年： 1991年08月15日
JST資料番号： C0275A ISSN： 0021-9606 CODEN： JCPSA6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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