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文献
J-GLOBAL ID：200902026763412726
整理番号：82A0146130
TiN薄膜の酸化動力学
Oxidation kinetics of TiN thin films.
WITTMER M
(Swiss Federal Inst. Technology)
,
NOSER J
(Swiss Federal Inst. Technology)
,
MELCHIOR H
(Swiss Federal Inst. Technology)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 52 号： 11 ページ： 6659-6664 発行年： 1981年11月
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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