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文献
J-GLOBAL ID：200902027800787987
整理番号：86A0529560
Mo/Pd/Si薄皮膜中における相互拡散および界面のTEM研究
TEM study of interdiffusion and interfaces in Mo/Pd/Si thin films.
SINGH R N
(General Electric, New York)
,
KOCH E F
(General Electric, New York)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 133 号： 6 ページ： 1191-1195 発行年： 1986年06月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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