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文献
J-GLOBAL ID：200902028616141663
整理番号：88A0261801
多結晶シリコン上の10nm以下のSiO2/Si3N4多層膜の信頼性
Reliability of nano-meter thick multi-layer dielectric films on poly-crystalline silicon.
大路譲
(日立 中研)
,
吉田育生
(日立 中研)
,
兼子宏子
(日立 デバイス開セ)
,
笠原修
(日立 デバイス開セ)
,
矢木邦博
(日立 中研)
,
向喜一郎
(日立 中研)
資料名：
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 87 号： 381 ページ： 43-47(SDM87-180) 発行年： 1988年02月19日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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