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J-GLOBAL ID：200902031051361096 整理番号：91A0863456

Low-temperature silicon and germanium CVD in ultracleam environment.

著者 (4件)：

MUROTA J

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

KATO M

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

KIRCHER R

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

ONO S

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

資料名：

Journal de Physique. 4. Proceedings (Journal de Physique. 4. Proceedings)

巻： 1 号： C2 ページ： C2.795-C2.802 発行年： 1991年09月
JST資料番号： A0743C ISSN： 1155-4339 資料種別：会議録 (C)
発行国：フランス (FRA) 言語：英語 (EN)

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