文献
J-GLOBAL ID:200902031325292355
整理番号:93A0008542
HNO3およびHFを用いる(100)SiからのSi1-xGexの選択的除去
Selective Removal of Si1-xGex from (100) Si Using HNO3 and HF.
著者 (4件):
GODBEY D J
(Naval Research Lab., Washington, D.C.)
,
KRIST A H
(Naval Research Lab., Washington, D.C.)
,
HOBART K D
(Naval Research Lab., Washington, D.C.)
,
TWIGG M E
(Naval Research Lab., Washington, D.C.)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
139
号:
10
ページ:
2943-2947
発行年:
1992年10月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)