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文献
J-GLOBAL ID：200902032517915875
整理番号：90A0222261
高性能ポジ型フォトレジストの設計概念
Design concept for a high-performance positive photoresist.
HANABATA M
(Sumitomo Chemical Co. Ltd., Osaka, JPN)
,
UETANI Y
(Sumitomo Chemical Co. Ltd., Osaka, JPN)
,
FURUTA A
(Sumitomo Chemical Co. Ltd., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 7 号： 4 ページ： 640-650 発行年： 1989年07月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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