文献
J-GLOBAL ID:200902032672161704
整理番号:88A0556967
77Kと300KにおけるサブミクロンSi n-MOSFETのモンテカルロシミュレーション
Monte-Carlo simulation of submicrometer Si n-MOSFET’s at 77 and 300K.
著者 (2件):
LAUX S E
(IBM Thomas J. Watson Research Center, NY, USA)
,
FISCHETTI M V
(IBM Thomas J. Watson Research Center, NY, USA)
資料名:
IEEE Electron Device Letters
(IEEE Electron Device Letters)
巻:
9
号:
9
ページ:
467-469
発行年:
1988年09月
JST資料番号:
B0344B
ISSN:
0741-3106
CODEN:
EDLEDZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)