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文献
J-GLOBAL ID：200902035014485562
整理番号：88A0419653
デープエッチシンクロトロン放射リソグラフィーの進歩
Progress in deep-etch synchrotron radiation lithography.
EHRFELD W
(Kernforschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU)
,
BLEV P
(Kernforschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU)
,
GOETZ F
(Kernforschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU)
,
MOHR J
(Kernforschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU)
,
MUENCHMEYER D
(Kernforschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU)
,
SCHELB W
(Kernforschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU)
,
BAVING H J
(Degussa AG, Hanau, DEU)
,
BEETS D
(Nederlandse Philips Bedrijven, Eindhoven, NLD)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 6 号： 1 ページ： 178-182 発行年： 1988年01月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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