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文献
J-GLOBAL ID：200902037262600842
整理番号：85A0082155
窒化シリコンのプラズマ生成法と評価
Preparation and characterization of plasma-deposited silicon nitride.
BLAAUW C
(Bell-Northern Research, Ottawa)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 131 号： 5 ページ： 1114-1118 発行年： 1984年05月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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