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文献
J-GLOBAL ID：200902037527760448
整理番号：92A0210590
拡散装置内のウェーハ列温度分布均一化制御
Wafer to Wafer Temperature Distribution Control in a Diffusion Furnace.
松葉育雄
(日立 システム開研)
,
杢屋錦司
(日立 システム開研)
,
松本邦顕
(日立 システム開研)
,
吉中明
(日立 武蔵工場)
資料名：
電子情報通信学会論文誌 C-2
(Transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C-2)
巻： 75 号： 2 ページ： 71-77 発行年： 1992年02月
JST資料番号： L0196A ISSN： 0915-1907 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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