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文献
J-GLOBAL ID：200902038479227011
整理番号：91A0003159
アルカリ性溶液中における結晶性シリコンの異方性エッチング II ドーパントの影響
Anisotropic Etching of Crystalline Silicon in Alkaline Solutions. II. Influence of Dopants.
SEIDEL H
(Messerschmitt-Boelkow-Blohm GmbH, Munich, DEU)
,
CSEPREGI L
(Fraunhofer-Inst. Festkoerpertechnologie, Munich, DEU)
,
HEUBERGER A
(Fraunhofer-Inst. Mikrostrukturtechnik, Berlin, DEU)
,
BAUMGAERTEL H
(Freie Univ. Berlin, Berlin, DEU)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 137 号： 11 ページ： 3626-3632 発行年： 1990年11月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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