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文献
J-GLOBAL ID：200902039013001419
整理番号：91A0658322
アンバランスマグネトロンと増強プラズマイオン化を用いた新しいスパッタ装置
Unbalanced magnetrons and new sputtering systems with enhanced plasma ionization.
MUSIL J
(Inst. Physics, Czechoslovak Academy of Sciences, Prague, CSK)
,
KADLEC S
(Inst. Physics, Czechoslovak Academy of Sciences, Prague, CSK)
,
MUENZ W-D
(Hauzer Techno Coating Europe BV, NLD)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 9 号： 3 Pt 1 ページ： 1171-1177 発行年： 1991年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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