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文献
J-GLOBAL ID：200902039072060020
整理番号：82A0138539
レーザによるシリコンの酸化
Laser-induced oxidation of silicon.
BOYD I W
(Heriot-Watt Univ., Gt. Britain)
,
WILSON J I B
(Heriot-Watt Univ., Gt. Britain)
,
WEST J L
(Hughes Microelectronics Ltd., Gt. Britain)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 83 号： 4 ページ： L173-L176 発行年： 1981年09月25日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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