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文献
J-GLOBAL ID：200902039187414291
整理番号：84A0014528
ほう素の蒸着と窒素イオンビームの衝撃による立方晶型窒化ほう素膜の形成
Formation of cubic boron nitride films by boron evaporation and nitrogen ion beam bombardment.
SATOU M
(Government Industrial Research Inst.,Osaka)
,
FUJIMOTO F
(Univ. Tokyo)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 22 号： 3 ページ： L171-L172 発行年： 1983年03月
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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