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文献
J-GLOBAL ID：200902039299942878
整理番号：84A0196210
バッグランドドーズの均等化による電子ビームリソグラフィーに対する近接効果の補正
Proximity effect correction for electron beam lithography by equalization of background dose.
OWEN G
(Hewlett-Packard, California)
,
RISSMAN P
(Hewlett-Packard, California)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 54 号： 6 ページ： 3573-3581 発行年： 1983年06月
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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