文献
J-GLOBAL ID:200902041585134856
整理番号:87A0187797
広がり抵抗(spreading resistance)及び二次イオン質量分析によるほう素及びひ素の拡散分布像測定
Diffusion profiles of boron and arsenic measured by spreading resistance and secondary ion mass spectrometry.
著者 (2件):
SWEENEY G G
(Motorola, Inc., AZ, USA)
,
ALVAREZ A R
(Motorola, Inc., AZ, USA)
資料名:
Microbeam Analysis
(Microbeam Analysis)
巻:
21st
ページ:
97-98
発行年:
1986年
JST資料番号:
E0776B
ISSN:
0278-1727
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)