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J-GLOBAL ID：200902041867848851 整理番号：85A0260036

KOH水溶液中におけるシリコンの配向依存エッチングに関するエリプソメトリー研究

Ellipsometric study of orientation-dependent etching of silicon in aqueous KOH.

著者 (3件)：

PALIK E D

(Naval Research Lab., Washington, DC)

BERMUDEZ V M

(Naval Research Lab., Washington, DC)

GLEMBOCKI O J

(Naval Research Lab., Washington, DC)

資料名：

Journal of the Electrochemical Society (Journal of the Electrochemical Society)

巻： 132 号： 4 ページ： 871-884 発行年： 1985年04月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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