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文献
J-GLOBAL ID：200902042357305345
整理番号：82A0223571
Czochralski技術による結晶成長時のけい素融液中の動的酸素平衡
Dynamic oxygen equilibrium in silicon melts during crystal growth by the Czochralski technique.
CARLBERG T
(Massachusetts Inst. Technology)
,
KING T B
(Massachusetts Inst. Technology)
,
WITT A F
(Massachusetts Inst. Technology)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 129 号： 1 ページ： 189-193 発行年： 1982年01月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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