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文献
J-GLOBAL ID：200902044108635460
整理番号：92A0500862
表面赤外線分光によって調べたふっ化水素酸とふっ化アンモニウムで処理したシリコン表面形態
Morphology of hydrofluoric acid and ammonium fluoride-treated silicon surfaces studied by surface infrared spectroscopy.
NIWANO M
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
TAKEDA Y
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
ISHIBASHI Y
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
KURITA K
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
MIYAMOTO N
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 71 号： 11 ページ： 5646-5649 発行年： 1992年06月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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