文献
J-GLOBAL ID:200902044491522614
整理番号:86A0521288
プラズマ促進CVDで作ったSiOx膜の赤外分光学的研究
Infrared spectroscopic study of SiOx films produced by plasma enhanced chemical vapor deposition.
著者 (4件):
PAI P G
(Energy Conversion Devices Inc., Michigan)
,
CHAO S S
(Energy Conversion Devices Inc., Michigan)
,
TAKAGI Y
(Energy Conversion Devices Inc., Michigan)
,
LUCOVSKY G
(North Carolina State Univ.)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
4
号:
3 Pt 1
ページ:
689-694
発行年:
1986年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)