文献
J-GLOBAL ID:200902044544806792
整理番号:87A0066333
LPCVD多結晶SiOx皮膜の成長と物理的性質
Growth and physical properties of LPCVD polycrystalline SiOx films.
著者 (4件):
WIDMER A E
(Lab. RCA Ltd., Zurich, CHE)
,
HARBEKE G
(Lab. RCA Ltd., Zurich, CHE)
,
KRAUSBAUER L
(Lab. RCA Ltd., Zurich, CHE)
,
STEIGMEIER E F
(Lab. RCA Ltd., Zurich, CHE)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
133
号:
9
ページ:
1880-1886
発行年:
1986年09月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)