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文献
J-GLOBAL ID：200902045000340885
整理番号：91A0229919
Si(100)上のエピタキシャルNiSi2界面におけるSchottky障壁の不均一性
Schottky-barrier inhomogeneity at eqitaxial NiSi2 interfaces on Si(100).
TUNG R T
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
LEVI A F J
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
SULLIVAN J P
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
SCHREY F
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
資料名：
Physical Review Letters
(Physical Review Letters)
巻： 66 号： 1 ページ： 72-75 発行年： 1991年01月07日
JST資料番号： H0070A ISSN： 0031-9007 CODEN： PRLTAO 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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