文献
J-GLOBAL ID:200902045206777651
整理番号:92A0206213
エチルイミドタンタル錯体からの窒化タンタル薄膜の堆積
Deposition of tantalum nitride thin films from ethylimidotantalum complex.
著者 (2件):
CHIU H-T
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHANG W-P
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
資料名:
Journal of Materials Science Letters
(Journal of Materials Science Letters)
巻:
11
号:
2
ページ:
96-98
発行年:
1992年01月15日
JST資料番号:
D0919B
ISSN:
0261-8028
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)