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文献
J-GLOBAL ID：200902046058807569
整理番号：88A0418847
シリコン中の打込み炭素による金および銅のゲッタリング
Gettering of gold and copper with implanted carbon in silicon.
WONG H
,
CHEUNG N W
,
CHU P K
(Charles Evans & Assoc., CA, USA)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 52 号： 11 ページ： 889-891 発行年： 1988年03月14日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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