文献
J-GLOBAL ID:200902046088013141
整理番号:89A0009488
ホットエレクトロンストレスによるn-MOSFETの漏れ電流劣化
Leakage current degradation in n-MOSFET’s due to hot-electron stress.
著者 (3件):
DUVVURY C
(Texas Instruments Inc., TX, USA)
,
REDWINE D J
(Texas Instruments Inc., TX, USA)
,
STIEGLER H J
(Texas Instruments Inc., TX, USA)
資料名:
IEEE Electron Device Letters
(IEEE Electron Device Letters)
巻:
9
号:
11
ページ:
579-581
発行年:
1988年11月
JST資料番号:
B0344B
ISSN:
0741-3106
CODEN:
EDLEDZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)