文献
J-GLOBAL ID:200902046123094290
整理番号:89A0528312
TEOS(テトラエトキシシラン)-O3系常圧CVD酸化膜を用いたAl多層配線
Apcvd-oxide by using TEOS and ozone for multilevel interconnection.
著者 (7件):
松浦正純
(三菱電機 LSI研)
,
蜂須賀敦司
(三菱電機 LSI研)
,
源城英毅
(三菱電機 LSI研)
,
小谷秀夫
(三菱電機 LSI研)
,
長友正男
(三菱電機 LSI研)
,
長尾繁雄
(三菱電機 LSI研)
,
松川隆行
(三菱電機 LSI研)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
89
号:
139(SDM89 49-62)
ページ:
27-31
発行年:
1989年07月20日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)