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文献
J-GLOBAL ID：200902046171152455
整理番号：85A0363690
イオン注入におけるウエハ充電とビーム相互作用
Wafer charging and beam interactions in ion implantation.
MACK M E
(EATON Corp., Massachusetts)
,
RYDING G
(EATON Corp., Massachusetts)
,
DOUGLAS-HAMILTON D H
(EATON Corp., Massachusetts)
,
STEEPLES K
(EATON Corp., Massachusetts)
,
FARLEY M
(EATON Corp., Massachusetts)
,
GILLIS V
(EATON Corp., Massachusetts)
,
WHITE N
(EATON Corp., Massachusetts)
,
WITTKOWER A
(Zymet Corp., Massachusetts)
,
LAMBRACHT R
(Digital Equipment Corp., Massachusetts)
資料名：
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 6 号： 1/2 ページ： 405-411 発行年： 1985年01月
JST資料番号： H0899A ISSN： 0168-583X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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