文献
J-GLOBAL ID:200902047769450074
整理番号:86A0556927
プラズマ増強CVDにより析出させたシリコン-オキシニトリド皮膜の特性
Characterization of silicon-oxynitride films deposited by plasma-enhanced CVD.
著者 (4件):
CLAASSEN W A P
(Philips, The Netherlands)
,
POL H A J TH
(Philips, The Netherlands)
,
GOEMANS A H
(Philips, The Netherlands)
,
KUIPER A E T
(Philips, The Netherlands)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
133
号:
7
ページ:
1458-1464
発行年:
1986年07月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)